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  • GX-3005高溫循環(huán)器
    GX-3005高溫循環(huán)器

    高溫循環(huán)器適用于夾套反應(yīng)釜,化工中試反應(yīng),高溫蒸餾,半導(dǎo)體工業(yè)等。用于夾套反應(yīng)釜,化工中試反應(yīng),高溫蒸餾,半導(dǎo)體工業(yè)等。GX系列彌補(bǔ)了國內(nèi)同類產(chǎn)品的不足之處,價(jià)格又極大的低于進(jìn)口產(chǎn)品,是理想的選擇。

    更新時(shí)間:2024-09-11
  • ZT-20-200-80上海密閉制冷加熱循環(huán)裝置
    ZT-20-200-80上海密閉制冷加熱循環(huán)裝置

    ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應(yīng)釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

    更新時(shí)間:2024-09-11
  • ZT-50-200-20密閉制冷加熱循環(huán)裝置直銷
    ZT-50-200-20密閉制冷加熱循環(huán)裝置直銷

    ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應(yīng)釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

    更新時(shí)間:2024-09-11
  • ZT-50-200-40密閉制冷加熱循環(huán)裝置參數(shù)
    ZT-50-200-40密閉制冷加熱循環(huán)裝置參數(shù)

    ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應(yīng)釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

    更新時(shí)間:2024-09-11
  • ZT-20-200-40密閉制冷加熱循環(huán)裝置
    ZT-20-200-40密閉制冷加熱循環(huán)裝置

    ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應(yīng)釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

    更新時(shí)間:2024-09-11
  • ZT-50-200-30密閉制冷加熱循環(huán)裝置報(bào)價(jià)
    ZT-50-200-30密閉制冷加熱循環(huán)裝置報(bào)價(jià)

    ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應(yīng)釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

    更新時(shí)間:2024-09-11
  • ZT-20-200-30密閉制冷加熱循環(huán)裝置價(jià)格
    ZT-20-200-30密閉制冷加熱循環(huán)裝置價(jià)格

    ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應(yīng)釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

    更新時(shí)間:2024-09-11
  • ZT-10-99-5密閉制冷加熱循環(huán)裝置廠家
    ZT-10-99-5密閉制冷加熱循環(huán)裝置廠家

    ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應(yīng)釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

    更新時(shí)間:2024-09-11
  • ZT-50-200-80密閉制冷加熱循環(huán)裝置
    ZT-50-200-80密閉制冷加熱循環(huán)裝置

    ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應(yīng)釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

    更新時(shí)間:2024-09-11
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